紫外(wài)光刻機的應用在什麽地方呢
更新時間：2022-11-03 點擊次數：1232
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生(shēng)産。它經過**設計，方便處理各種非标準基片、例如混合、高頻(pín)元件和易碎的III-V族材料，包括砷化镓和磷化铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現紫外(wài)納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮點：高分(fēn)辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分(fēn)視場顯微鏡，實現快速準确對準、針對厚膠工(gōng)藝進行優化的高分(fēn)辨光學系統、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
采用三柔性支點實現高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、複位實現自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明；可連續設定分(fēn)離(lí)間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
光刻機通過一(yī)系列的光源能量、形狀控制手段，将光束透射過畫着線路圖的掩模，經物(wù)鏡補償各種光學誤差，将線路圖成比例縮小(xiǎo)後映射到矽片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖（即芯片）。
一(yī)般的光刻工(gōng)藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工(gōng)序。經過一(yī)次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越複雜(zá)的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
紫外(wài)光刻機工(gōng)作原理
在加工(gōng)芯片的過程中(zhōng)，光刻機通過一(yī)系列的光源能量、形狀控制手段，将光束透射過畫着線路圖的掩模，經物(wù)鏡補償各種光學誤差，将線路圖成比例縮小(xiǎo)後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一(yī)般的光刻工(gōng)藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工(gōng)序。經過一(yī)次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。越複雜(zá)的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
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