看看URE-2000/35型紫外(wài)光刻機都有哪些突破傳統的優勢？
更新時間：2021-06-17 點擊次數：1064
随着電子工(gōng)業的快速發展，對作爲電子元器件基礎的印制闆的需求和對加工(gōng)精度的要求越來越高。
URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是印制闆制造過程中(zhōng)的重要設備。傳統的光刻機在生(shēng)産過程中(zhōng)需要人工(gōng)吹膜，需要經常更換薄膜。由于散熱系統過于臃腫，其生(shēng)産成本高、效率低，已不能滿足PCB生(shēng)産的需要。在實驗的基礎上，設計了一(yī)種雙層玻璃幹燥架光刻機，對其主要部件進行了改進，包括幹燥架系統、光路系統、冷卻系統、電氣和控制系統的整體(tǐ)設計。
在計算機的控制下(xià)，URE-2000/35型紫外(wài)光刻機利用聚焦電子束對有機聚合物(wù)（通常稱爲電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光。光刻膠改變其物(wù)理和化學性質，在一(yī)定的溶劑中(zhōng)形成良好或不良的溶解區域，從而在抗蝕劑上形成精細的圖案。
紫外(wài)投影光刻是将特定形狀的光斑投射到器件表面塗覆的光刻膠上，使光刻膠在照射區域發生(shēng)化學變化，曝光顯影後可形成微米級精密圖案；進一(yī)步的蝕刻或蒸發可以在樣品表面形成所需的結構。UV投影光刻作爲材料、器件、微結構和微器件的常用制備技術，廣泛應用于維納結構制備、半導體(tǐ)器件電極制備、太赫茲/毫米波器件制備、光掩模制備、PCB制造等應用領域。常規UV投影光刻機需要先制作掩膜版。耗材成本高、生(shēng)産周期長，難以滿足材料器件實驗室對靈活性和實驗進度的要求。近年來發展起來的無掩模光刻技術突破了這一(yī)技術局限，實現了任意形狀編程、自動高精度大(dà)規模拼接無掩模光刻，随時将您的設計轉化爲實際成品，大(dà)大(dà)縮短了開(kāi)發測試周期，強力輔助維納微納器件的制備。
URE-2000/35型紫外(wài)光刻機基于多年微納結構制備經驗，自主研發高均勻度UV光源、高保真導光路、高精度、大(dà)行程、大(dà)承重納米平台等核心技術，結合高度穩定的機械結構、自動化和軟件設計，推出全自動高精度無掩模光刻機。
當前位置：
地址：安徽省合肥市經開(kāi)區尚澤大(dà)都會A座2214
郵箱：1053185136@qq.com
傳真：