紫外(wài)光刻機是制造集成電路中(zhōng)重要的設備，特别是現在市面上大(dà)部分(fēn)的芯片都是屬于電子芯片，當電子芯片的工(gōng)藝小(xiǎo)于一(yī)定的尺寸的時候，就必須依靠光刻機在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生(shēng)活中(zhōng)是重要的，比如電腦、手機等電子産品都少不了。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生(shēng)産。它經過**設計，方便處理各種非标準基片、例如混合、高頻(pín)元件和易碎的III-V族材料，包括砷化镓和磷化铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現紫外(wài)納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮點：高分(fēn)辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分(fēn)視場顯微鏡，實現快速準确對準、針對厚膠工(gōng)藝進行優化的高分(fēn)辨光學系統、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
随着電子業的飛速發展,對作爲電子元器件基礎的印制闆的需求量及其加工(gōng)精度的要求越來越高。紫外(wài)線光刻機是印制闆制造工(gōng)藝中(zhōng)的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生(shēng)産過程中(zhōng)需要人工(gōng)趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生(shēng)産成本高、效率低,已不能滿足PC B 生(shēng)産的需要。在實驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機，改進了其主要組成部分(fēn),包括曬架系統、光路系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體(tǐ)設計。
在計算機的控制下(xià)，利用聚焦電子束對有機聚合物(wù)（通常稱爲電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光，受電子束輻照後的光刻膠，其物(wù)理化學性質發生(shēng)變化，在一(yī)定的溶劑中(zhōng)形成良溶或非良溶區域，從而在抗蝕劑上形成精細圖形。
紫外(wài)光刻機的原理是在已經切割好的晶圓（通常是多晶矽）上覆蓋一(yī)層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一(yī)般是紫外(wài)光、深紫外(wài)光、極紫外(wài)光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外(wài)線照射到的光刻膠會發生(shēng)反應。此後用特定溶劑洗去(qù)被照射/未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到晶片的轉移。簡單來說，就用紫外(wài)線把多層電路圖雕刻在晶圓上，而在這過程中(zhōng)就必然要用到光刻機。
當前位置：
地址：安徽省合肥市經開(kāi)區尚澤大(dà)都會A座2214
郵箱：1053185136@qq.com
傳真：