URE-2000/35型紫外(wài)光刻機使用須知(zhī)
更新時間：2022-05-13 點擊次數：2295
光刻是使用曝光将設計的掩模圖案轉移到基闆的過程，URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是專爲實驗室研發和小(xiǎo)批量生(shēng)産而設計的高分(fēn)辨率光刻系統。光刻機提供良好的基闆适應性，可夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑爲150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空、軟接觸、硬接觸等，可實現鍵合對準、納米壓印、微接觸密封等多種功能。
1、穩定的納米分(fēn)辨率；
2、大(dà)面積全場曝光，無需拼接；
3、自由度不受限制，不影響厚膠和表面翹曲；
4、雙工(gōng)作模式；
5、全息光刻模式：周期性納米結構；
6、掩模對準光刻模式：任何微米結構；
7、簡化的曝光工(gōng)藝可實現一(yī)鍵式曝光；
8、靈活的定制解決方案。
URE-2000/35型紫外(wài)光刻機同類産品的優異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可用孔徑，更長的弧光燈使用壽命：高達30000次曝光，即時啓動，無需超淨室，内置淨化系統可以使系統在大(dà)氣環境中(zhōng)工(gōng)作，無需主動冷卻和外(wài)部冷卻，綠色技術：高光能轉換率（EVU僅爲0.02%），節能省電；傳統UV加工(gōng)會存在以上問題，光刻操作幾分(fēn)鍾即可完成，維護簡單。
URE-2000/35型紫外(wài)光刻機廣泛應用于半導體(tǐ)光刻工(gōng)藝、光波導、光栅、MEMS、二極管芯片、發光二極管（LED）芯片制造、顯示面闆LCD、光電器件、納米壓印和電子封裝。它的使用須知(zhī)如下(xià)：
1、不要頻(pín)繁開(kāi)關汞燈；
2、水銀燈剛開(kāi)機需要預熱一(yī)段時間；
3、檢查氮氣。CDA壓力必須爲0.6MPa，N2壓力必須爲0.4MPa。
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