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DS-2000/14G型光刻機

簡要描述：DS-2000/14G型光刻機該機可采用紫外(wài)光、深紫外(wài)光、甚至更短波長的極紫外(wài)光作爲光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明。

  • 産品型号：
  • 廠商(shāng)性質：生(shēng)産廠家
  • 更新時間：2024-06-04
  • 訪  問  量：1611

産品分(fēn)類

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詳細介紹

品牌其他品牌價格區間面議
儀器種類微流控芯片系統應用領域醫療衛生(shēng),環保,電子
産品名稱：DS-2000/14G型光刻機
主要技術指标：
單次曝光面積：1.4mm×1mm;
大(dà)曝光基片：100mm ×100mm ;
對準精度：±0.8μm（半自動對準）;
大(dà)膠厚：300μm（SU8膠）;
自動逐場對焦；
分(fēn)辨力：1μm；
X、Y、Z、θ四自由度電動位移台 ;
X、Y平移重複定位精度：0.65μm（3σ）;
Z向運動精度：1μm。
DS-2000/14G型光刻機技術特點：
該機可采用紫外(wài)光、深紫外(wài)光、甚至更短波長的極紫外(wài)光作爲光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統（可同時使用），拼接獲得大(dà)面積圖形，曝光設定采用微機控制，菜單界面友好，操作簡便。


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