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2022
6-23
femto可調電流放(fàng)大(dà)器都有哪些應用?
femto可調電流放(fàng)大(dà)器是要求在帶寬值達200MHz從小(xiǎo)電流轉換成可用的電壓應用程序的佳選擇。它非常适合用于直流和交流測量值達200MHz,時間分(fēn)辨測量到該ns區域和作爲前置放(fàng)大(dà)器可快速光電探測器信号。提供了包括可變增益值從102到108V...
2022
6-15
Harrick等離(lí)子清洗機的作用主要表現在這些方面
Harrick等離(lí)子清洗機在各個行業的清洗工(gōng)作中(zhōng)起着非常重要的作用。等離(lí)子清洗機确實很強大(dà),安全可靠,可用于各種環境領域和場合,實現高效安全使用。它的作用主要表現在這些方面。1、表面清潔Harrick等離(lí)子清洗機在運行過程中(zhōng)可以對産品表面進...
2022
6-10
紫外(wài)光刻機的産品優點介紹
紫外(wài)光刻機是制造集成電路中(zhōng)重要的設備,特别是現在市面上大(dà)部分(fēn)的芯片都是屬于電子芯片,當電子芯片的工(gōng)藝小(xiǎo)于一(yī)定的尺寸的時候,就必須依靠光刻機在制作芯片,也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片,比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可...
2022
6-8
紫外(wài)光刻機強力助攻微納器件制備
紫外(wài)光刻機新一(yī)代紫外(wài)光源:172nm,具有同類産品良好的輸出強度,3%的可用孔徑,弧光燈使用壽命更長。暴露高達30000次,瞬間啓動,無需超淨室,内置淨化系統可使系統在大(dà)氣環境中(zhōng)工(gōng)作,無需主動冷卻和外(wài)部冷卻,無有毒氣體(tǐ)和汞等物(wù)質。高光能轉換...
2022
5-13
URE-2000/35型紫外(wài)光刻機使用須知(zhī)
光刻是使用曝光将設計的掩模圖案轉移到基闆的過程,URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是專爲實驗室研發和小(xiǎo)批量生(shēng)産而設計的高分(fēn)辨率光刻系統。光刻機提供良好的基闆适應性,可夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑爲150mm。該設備提供多種曝光方式,包括真空、...
2022
5-13
等離(lí)子清洗機的清洗原理介紹
等離(lí)子清洗機(plasmacleaner)也叫等離(lí)子表面處理儀,是一(yī)種新的技術,利用等離(lí)子體(tǐ)來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離(lí)子體(tǐ)是物(wù)質的一(yī)種狀态,也叫做物(wù)質的第四态。對氣體(tǐ)施加足夠的能量使之離(lí)化便成爲等離(lí)子狀态。等離(lí)子體(tǐ)的“活性”組分(fēn)...
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